Зарегистрироваться
Восстановить пароль
FAQ по входу

Вакуумно-конденсационные методы нанесения покрытий

Теги, соответствующие этому тематическому разделу

Файлы, которые ищут в этом разделе

Доверенные пользователи и модераторы раздела

Progress in Materials Science 48 (2003) 57–170 Chemical Vapour Deposition (CVD) of films and coatings involve the chemical reactions of gaseous reactants on or near the vicinity of a heated substrate surface. This atomistic deposition method can provide highly pure materials with structural control at atomic or nanometer scale level. Moreover, it can produce single layer,...
  • №1
  • 1,74 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • изменен
Weinheim, Germany: Wiley-VCH Verlag GmbH & Co., 2015. — 484 p. — ISBN 3527337997. The method of CVD (chemical vapor deposition) is a versatile technique to fabricate high-quality thin films and structured surfaces in the nanometer regime from the vapor phase. Already widely used for the deposition of inorganic materials in the semiconductor industry, CVD has become the method of...
  • №2
  • 8,65 МБ
  • добавлен
  • изменен
Weinheim; New York; Cambridge; Tokyo: VCH, 1994. — 562 p. — ISBN 3-527-29071-0. High purity, thin metal coatings have a variety of important commercial applications, for example, in the microelectronics industry, as catalysts, as protective and decorative coatings as well as in gas-diffusion barriers. This book offers detailed, up- to-date coverage of the chemistry behind the...
  • №3
  • 9,32 МБ
  • добавлен
  • изменен
Materials Park, OH: ASM International, 2001. — vii, 481 p. — (Surface Engineering Series, v. 2). This handbook provides guidelines and practical information on the chemical vapor deposition (CVD) process for surface engineering design, product development, and manufacturing. The first of the 14 chapters discuss the basic principles of CVD thermodynamics and kinetics, stresses...
  • №4
  • 16,19 МБ
  • добавлен
  • изменен
Oxford: Elsevier Science, 1983. — 152 p. — ISBN 978-0-12-674780-5, 0-12-674780-6, 9780323139151, 0323139159. Vacuum technology is advancing and expanding so rapidly that a major difficulty for most companies in the field is finding qualified technicians needed for expansion and as replacements. The only recourse for most companies is to hire capable, though untrained, people to...
  • №5
  • 16,12 МБ
  • добавлен
  • изменен
Харьков: ННЦ ХФТИ, 2010. – 318 с. Рассмотрены физические процессы, происходящие на электродах и в межэлектродном пространстве вакуумно-дугового разряда. Описаны основные подходы к конструированию вакуумно-дуговых испарителей и некоторые их схемы. Приведены характеристики износостойких вакуумно-дуговых покрытий, в том числе сверхтвердых наноструктурных, и результаты их...
  • №6
  • 13,10 МБ
  • добавлен
  • изменен
Харьков: ННЦ ХФТИ, 2005. — 236 с. 300 dpi, ч/б, постранично, распознано Рассмотрены физические процессы, происходящие на электродах и в межэлектродном пространстве вакуумно-дугового разряда, в том числе новая физическая модель катодного пятна, его поведение в магнитных полях и взаимодействие с поверхностью катода. Описаны основные принципы конструирования вакуумно-дуговых...
  • №7
  • 13,69 МБ
  • добавлен
  • изменен
Підручник. — Харків: Національний аерокосмічний університет ім. М. Є. Жуковського «Харківський авіаційний інститут», 2018. — 288 с.: іл. Розглянуто фізичні процеси, що відбуваються при отриманні вакуумно-дугових покриттів на електродах, у міжелектродному просторі вакуумно-дугового розряду і на оброблюваній поверхні. Описано принципи роботи вакуумно-дугових випарників і основні...
  • №8
  • 18,63 МБ
  • добавлен
  • изменен
Самара: СГАУ, 2001. — 24 c. Приведены теоретические сведения по технологии нанесения слоев методом магнетронного распыления материалов. Описаны основные узлы и блоки агрегата непрерывного действия типа О1НИ-7-006, а также порядок работы на нем для приобретения практических навыков нанесения материалов на подложку. Рекомендуются студентам специальности 20.08.00 при изучении...
  • №9
  • 909,74 КБ
  • добавлен
  • изменен
М.: Техносфера, 2007. — 176 с. В книге обобщено современное состояние одной из отраслей производства изделий электронной техники: вакуумной технологии нанесения и травления тонких пленок. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок, плазмохимических установок для травления тонких пленок и технологических особенностей их использования. Описаны...
  • №10
  • 1,44 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • изменен
М.: Заочный институт ЦП ВНТО приборостроителей им. С.И. Вавилова, 1988. — 68 с. В пособии рассмотрены основные типы тонкослойных оптических покрытий, наносимых в вакууме. Приведены ряд особенносей испарения оксидов металлов при их электронно-лучевом испарении в вакууме. Методами пассивного и активного моделирования процессов нанесения, построены математические модели слоёв с...
  • №11
  • 3,19 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • изменен
Л.: ЛДНТП, 1983. — 28 с. В брошюре рассматривается состояние работ в области автоматизированного нанесения тонкослойных интерференционных покрытий в вакууме на установке с управлением от микрокомпьютера. Приводится алгоритм работы установки и примеры реализации некоторых конструкций покрытий. Даётся математическая модель процесса нанесения слоя оксида титана, полученная на...
  • №12
  • 23,54 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • изменен
Учебное пособие. — СПб.: СПбГТУ, 1996. — 44 с. Для студентов конструкторских специальностей 5-го курса механико-машиностроительного факультета, изучающих курсы "Вакуумная техника", "Оборудование для производства электровакуумных приборов", "Оборудование для производства полупроводниковых приборов". Пособие может быть использовано для выполнения лабораторных работ и курсового...
  • №13
  • 1,84 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • изменен
М.: Энергия, 1967. — 312 с.: илл. В книге рассматриваются способы получения и обработки, а также методы измерения скорости напыления и толщины тонкопленочных слоев и основные области применения тонких пленок. Излагаются требования к вакууму и составу остаточной среды при термическом испарении и катодном распылении и описываются современные средства получения и измерения вакуума, а...
  • №14
  • 4,63 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • изменен
Под ред. В.К. Сырчина. — М.: Машиностроение, 1987. — 72 с.: ил. В брошюре кратко рассмотрены вакуумные процессы в химически активной среде (плазмохимическое осаждение пленок при пониженном давлении и вакуумно-плазменное травление микроструктур). Дан анализ влияния различных факторов на параметры процессов осаждения и травления. Сформулированы требования к вакуумным насосам,...
  • №15
  • 1005,12 КБ
  • дата добавления неизвестна
  • изменен
Под ред. В.К. Сырчина. — М.: Машиностроение, 1987. — 72 с.: ил. В брошюре кратко рассмотрены вакуумные процессы в химически активной среде (плазмохимическое осаждение пленок при пониженном давлении и вакуумно-плазменное травление микроструктур). Дан анализ влияния различных факторов на параметры процессов осаждения и травления. Сформулированы требования к вакуумным насосам,...
  • №16
  • 3,18 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • изменен
Препринт НИИЭФА П-0998, СПб.: ФГУП НИИЭФА им. Д.В. Ефремова, 2009, 55 с. Приведены краткий обзор современного состояния проблемы, методика расчёта и описание конструкции модульного 30/60/90 электромагнитного фильтра для вакуумно-дуговых источников плазмы, а также экспериментальные результаты исследования параметров системы источник – фильтр. Включены также некоторые результаты...
  • №17
  • 6,74 МБ
  • добавлен
  • изменен
М.: Машиностроение, 1987. — 208 с.: ил. Изложены теоретические основы способов получения покрытий из сплавов в вакууме, приведены основы технологии нанесения различных покрытий из сплавов на металлы и неметаллы. Обобщены данные исследований влияния условий осаждения покрытий на их пористость и защитные свойства, а также электрохимического поведения покрытий в агрессивных средах....
  • №18
  • 5,37 МБ
  • добавлен
  • изменен
М.: Машиностроение, 1978. — 60 с. Кратко рассмотрены вакуумные технологические методы получения тонких пленок, которые находят все большее применение в различных областях науки и техники, а также некоторые прикладные вопросы вакуумной техники. Приведены классификация и технические данные. Описаны наиболее типичные испарительно-распылительные системы и установки для нанесения...
  • №19
  • 898,20 КБ
  • дата добавления неизвестна
  • изменен
М.: Высшая школа, 1989. — 110 с. Рассмотрены вопросы: нанесение пленок методами термического испарения, ионно-плазменного распыления; контроль параметров пленок и технологических режимов их нанесения; оборудование для нанесения пленок; электровакуумная гигиена и техника безопасности.
  • №20
  • 3,07 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • изменен
М.: Металлургия, 1992. — 112 с. Изложены физические процессы и техника создания атомарных потоков вещества при вакуумном напылении. Рассмотрены взаимодействие потоков пара с поверхностью твер­дых тел, зарождение и рост покрытий. Показано влияние основных технологических пара­метров на их структуру и свойства. Описано получение покрытий различного функцио­нального назначения....
  • №21
  • 2,50 МБ
  • добавлен
  • изменен
Харьков: ННЦ ХФТИ, 2006. — 361 с. Систематизированы процессы, происходящие при вакуумно-диффузионной обработке металлических поверхностей в тлеющем разряде, на основе анализа известных моделей их и общих положений физики электрического разряда в газе предложена энергетическая модель формирования модифицированного слоя. Изложены некоторые методики исследований, в том числе –...
  • №22
  • 4,09 МБ
  • добавлен
  • изменен
M.: Наука, 2000. — 496 с.: ил. Книга посвящена изложению теории и практики CVD-метода (Chemical Vapor Deposition) - осаждению металлических пленок, покрытий, вискеров и высокодисперсных частиц из паровой (газовой) фазы летучих металлсодержащих соединений - карбонилов металлов, бис-π-циклопентадиенильных соединений (металлоцены), алкилов металлов, β-дикетонатов металлов и...
  • №23
  • 41,56 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • изменен
Учебное пособие. — М.: МИЭТ, 2011. — 168 с. — ISBN 978-5-7256-0630-0. Изложены вопросы физики газовых разрядов, физико-химических процессов в газоразрядной плазме и механизмов взаимодействия ионов и химически активных частиц, генерируемых в плазме, с поверхностью обрабатываемого материала. Представленный материал охватывает физико-химические процессы, на основе которых реализуются...
  • №24
  • 33,47 МБ
  • добавлен
  • изменен
Статья. — Вестник Нижегородского университета им. Н. И. Лобачевского. Физика твердого тела. — 2007. — №1. — С.52–56. Плазменно-иммерсионная ионная имплантация и осаждение металлов (MePIIID) является эффективным методом улучшения поверхностных свойств различных материалов. Были исследованы структура, фазовый состав и поверхностные свойства (смачиваемость, поверхностная энергия)...
  • №25
  • 207,71 КБ
  • дата добавления неизвестна
  • изменен
Навчальний посібник. Вінниця: ВНТУ, 2007. - 96 с. В навчальному посібнику розглянуті фундаментальні основи технологічних процесів вакуумно-конденсаційного напилювання покрить. Посібник розроблений у відповідності з планом кафедри та програмам дисциплін Розпилюючі пристрої та устаткування та Технологія та обладнання для напилення
  • №26
  • 4,73 МБ
  • добавлен
  • изменен
В этом разделе нет файлов.

Комментарии

В этом разделе нет комментариев.