Осипов А.В. Научное и технологическое обеспечение нанесения упрочняющих наноразмерных тонкопленочных покрытий для изделий электронной техники

Автореф. Дисс. На соиск учен степ. канд техн. наук.
Спец-ть 05.27.06 -Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники Москва, 2004. — 18 с.
Количество страниц диссертации 189Оглавление
Введение.
Аналитический обзор тенденций развития и перспективы применения многослойных
тонкопленочных покрытий.
Многослойные тонкопленочные покрытия и области их применения.
Микроэлектроника.
Микроэлектромеханика.
Оптика.
Машиностроение.
Особенности технологий формирования многослойных нанокомпозитных тонкопленочных покрытий.
Оборудование для нанесения многослойных тонких пленок
Перспективные направления применения тонкопленочных нанокомпозитных материалов.
Выводы по первой главе
Физико-химические аспекты формирования многослойных тонкопленочных нанокомпозитных * структур и проблемы измерения их механических свойств.
Процесс формирования тонких пленок в вакууме.
Влияние структуры пленки на ее механические свойства.
Влияние границ раздела поверхностей на свойства многослойной пленки. ф 2.4. Влияние поверхности пленки на ее свойства.
Теоретические модели расчета твердости.
Проблемы измерения твердости тонких пленок посредством микро- и наноиндентирования.
Особенности микроиндентирования.
Особенности наноиндентирования.
Выводы по второй главе.Разработка технологического оборудования для нанесения многослойных тонких пленок.
Опытно-экспериментальное оборудование.
Установка плазмохимического осаждения.
Установка нанесения тонких пленок в вакууме.
Вакуумный универсальный пост.
Промышленная установка вакуумного нанесения тонких пленок.
Аналитическое и измерительное оборудование.
Выводы по третьей главе.
Исследование свойств одно- и многослойных наноразмерных пленочных структур.
Осаждение Al, Си, Ti и Nb пленок на А1 основу.
Осаждение Ti/«-C:H, Ti/«-C:H/Ti, Ti/Cu, Ti/Cu/Ti пленочных структур на А1 основу.
Осаждение А1 и Ti пленок на основу из коррозионно-стойкой стали.
Осаждение Ti/Al многослойных структур на основу из коррозионно-стойкой стали.
Осаждение Ti и многослойных Nb/Ti нанопленок ф на А1 основу.
Осаждение многослойных пленочных структур титан/гидрогенизированный аморфный углерод.
Выводы по четвертой главе.